1. “KMK-3M”的特征
(1)在宽广的领域里光亮、整平非常优越、在弱电流区域也能充分发挥它的作用。
(2)富有均匀电镀膜层、走位优秀、电流效力良好、宽广的电流密度领域里都能工作,并且还能对应于静止或者滚镀方式。
(3)持续性能极佳、能够长时间均匀的维持其效果。
(4)膈膜及阳极袋不需要。
2.适用范围
(1)镀镍或镀铬的打底镀铜用。
(2)塑料/金属件上的电镀。
3. 使用方法
(1) 溶液组成
浓 度 范 围 | 标 准 组 成 | |
焦磷酸铜 | 70~100g/L | 85g/L |
金属铜 | 25~35g/L | 30g/L |
焦磷酸钾 | 270~380g/L | 320g/L |
P 比 | 6.5~7.5 | 7.0 |
P H | 8.6~9.4 | 9.0 |
KMK-3M | 1~3mℓ/L | 2mℓ/L |
KMK-3MA | 4~6mℓ/L | 5mℓ/L |
铵水※ | 0.3~0.5mℓ/L | 0.5mℓ/L |
注)在使用滚镀用的情况下务必请和弊公司销售所联系一下。
≪组成成分的作用≫
①铜
浓度过高或过低容易产生雾层、请在浓度管理范围内控制使用。
②焦磷酸钾
焦磷酸钾是醋化剂、这个量必需要同等以上。
浓度高的情况下走位会很好、其光亮度会朝着低电流密度方向移动,浓度低的情况下是朝着这反方向移动的显示趋向。
③P比:P₂O₇/Cu
用焦磷酸(P₂O₇)和金属铜的重量比(P₂O₇/Cu)焦磷酸高的情况下阳极溶解会导致走位良好、阴极效力低的情况下容易产生烧焦的现象。焦磷酸低的情况下阳极不容溶解、PH值也会降低。
④PH
在通常的条件下有降低的倾向。2天隔一次用PH计、或者用PH试验纸(T.B)进行测定补正。
提高PH值时、使用苛性钾、降下时使用多磷酸。
PH值低下时容易生成磷酸、过高的话容易产生铜的沉淀。
⑤氨水
帮助光亮性能延展、促进阳极溶解。
过剩的情况下在低电流区会降低光亮度和走位性能。过剩的情况下把温度提高到60℃进行空气搅拌让其蒸发。通常在槽液中带有微量的氨水气味就可以。
⑥“光亮剂:KMK-3M”
是光亮、整平的主光剂。用活性炭处理几乎都能去除。
活性炭处理后、「KMK:1mℓ/L」的补给需要。
补给时能够提高它的效果、最好用2~3倍的水稀释以后加入。
开缸剂:KMK-3MA
(2)作业条件
使 用 范 围 | 标 准 条 件 | |
浴 温 | 50~60℃ | 57℃ |
阴极电流密度 | 2~6A/d㎡ | 4A/d㎡ |
阳极电流密度 | 1~3A/d㎡ | 2A/d㎡ |
搅 拌 | 空气搅拌 | 空 气 搅 拌 |
过 滤 | 间接或连续 | 连 续 过 滤 |
阳 极 | 无酸素铜或电镀铜 | 无 酸 素 铜 |
(3)“光亮剂:KMK-3M”的补给方法
KMK-3M的消耗量是根据作业时间进行补给(由于电消耗量不易显示)。
通常的补给量为:每千培小时160-280です。
1天分2~3次分加、用水稀释2~3倍进行补给。
另外、KMK-3M会被活性碳去除、处理后要补加1mℓ/ℓ。
(4)氨水补给和管理方法
由于氨水要蒸发、大致上「100~200ml/㎡(浴槽的蒸发面积左右)/8h」进行补给。
(液槽的蒸发面积平均每1㎡8小时工作用量为100~200mℓ)。
(5)杂质影响及去除对策
举例参考显示焦磷酸铜电镀槽中杂质的影响。
杂 质 名 | 宽 容 量 | 影 响 | 去 除 方 法 |
氰化物
| 2~5ppm
| 弱电流区,发雾及叠影
| 过氧化氰处理后 活性炭处理ー过滤 或者空电解处理 |
铁、 | 0.3~2g/L | 弱电流区整平低下 | 弱电解 |
六价铬 | 1~2ppm | 弱电流区光亮低下 | 空电解、还原剂处理 |
磷酸 | 60~100g/L | 光亮整平低下 | 没有好的方法 |
有机物 | 光亮不良、针孔发生 | 活性炭过滤 | |
钙 | 0.2g/L | 光亮雾发生 | 没有好的方法 |
铝 | 0.1g/L | 同 上 | 空电解或者过滤 |